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簡要描述：拋光通常是將拋光介質(zhì)均勻分布在磨拋機的拋光布上，然后將樣品放在旋轉(zhuǎn)的拋光布上進行拋光，其目的在于去除研磨的劃痕和樣品表面變形層，從而得到無劃痕的反射鏡面，便于在金相顯微鏡下進行微觀結(jié)構(gòu)分析。
產(chǎn)品型號：KM系列 廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家更新時間：2025-04-11訪 問 量：1055相關文章
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